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第1364章 膜厚控制(1/2)

    八月三号,鹏城,实验楼三层。

    钱院士带了十二个人,关在机房里,三天没出来。

    手册拆开之后,问题比想象的多。蔡司的镀膜工艺用的是磁控溅射加离子束辅助沉积,两套系统配合,精度要求到了亚纳米级别。

    钱院士的助手小周拿着打印出来的参数表,站在设备前,对了半天。

    “钱老,咱们这台溅射设备,靶材转速最高到三千转,手册上要求四千五。”

    钱院士走过来,看了一眼参数。

    “膜厚控制呢?”

    小周翻到第三页:“手册要求单层膜厚度误差不超过零点零二纳米。咱们这台设备最好做到零点零八,差四倍。”

    钱院士把参数表放下,摘了老花镜。

    设备不够——这是硬伤。

    他打给张红旗。

    “红旗,设备精度不够。手册里的工艺,咱们现有的机器跑不了。”

    张红旗在煤市街:“差多少?”

    “核心指标差三到四倍。要么换设备,要么改设备。换设备国内买不到,国外买走审批,最快半年。”

    张红旗说:“改。”

    “改设备风险很大,改坏了连现在的精度都保不住。”

    张红旗说:“钱老,您先稳住。材料那边我来解决。设备改造的方案您先出,我这边配合。”

    挂了。

    八月四号,东京,住友化学株式会社。

    住友的半导体材料部门收到了一份内部通报:ASML和一家开曼信托公司达成了专利交叉授权协议,镀膜技术参数外流。

    住友的材料部部长田中看完通报,叫来下属。

    “查一下,之前跟我们采购高纯度钼靶材的那个中国团队,是不是鹏城那边的?”

    下属查了记录:“是。去年十一月下过一批订单,后来因为出口管制审批卡住了,一直没发货。”

    田中点头:“现在ASML把技术给出去了,说明这个团队有背景。重新联系他们。”

    下属问:“价格呢?”

    田中说:“涨百分之五十。”

    下属没多问,发了邮件。

    八月五号,鹏城,钱院士收到住友的邮件。

    他看了报价,眉头皱了一下,打给张红旗。

    “材料供应商主动联系过来了——日本住友。高纯度钼靶材,去年卡住的那批货,现在愿意卖了,但是涨价百分之五十。”

    张红旗问:“原价多少?”

    “一批三百二十万美元,现在要四百八十万。”

    张红旗没犹豫:“买。二十四小时内发货,到不了货换供应商。”

    钱院士说:“国内没有替代供应商,这个纯度只有住友和德国贺利氏能做。”

    张红旗说:“那就让他们发。钱的事我来办。”

    挂了电话,张红旗打给刘浩。

    刘浩在京城,刚从北影厂出来。

    “浩子,走个账。四百八十万美元,从香港账户出,打到住友化学的指定账户,今天之内到。”

    刘浩问:“什么钱?”

    “材料费,不多问。”

    刘浩说:“行,我让陈默那边办。”

    当天下午,陈默在香港操作。钱从瑞士账户转到香港,再从香港打到东京。四个小时,到账。

    住友收到款,田中签了发货单。钼靶材从横滨港装船,走海运,三天到鹏城。

    八月八号,材料到了。

    钱院士没急着装料。他带着团队蹲在溅射设备前,干了一件事。

    改机器。

    小周把设备的控制电路板拆出来。钱院士拿着手册上的参数,在白板上画了一个补偿模型。

    “设备精度不够,用软件补。”

    他让三个博士生把实验楼地下室的模拟集群调出来——四十台服务器,全部接上——跑了一个补偿算法。

    思路很简单:设备硬件做不到零点零二纳米的精度,就在每一层镀膜的过程中用传感器实时采集数据,反馈到算法里,算法即时修正下一步的沉积参数。

    等于让一个手抖的人,靠一套自动修正系统,画出一条直线。

    八月九号,凌晨两点,补偿参数跑出来了。

    小周把参数灌进设备控制系统,重启。

    溅射设备嗡嗡响了起来。

    钱院士站在无尘室的观察窗外,看着里面。

    第一层钼膜,沉积开始。

    传感器采集,数据回传,算法修正。第二层硅膜,沉积,采集,修正。

    一层钼,一层硅,交替沉积。

    EUV反射镜面需要四十对钼硅多层膜——八十层,每层厚度不到七纳米。

    八月十号,下午三点,八十层镀完。

    小周从无尘室里出来,手里端着一块圆形基片,直径十五厘米,表面泛着金属光泽。

    钱院士接过

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