荷兰，费尔德霍芬。
ASML总部。
一栋灰色的方形建筑，门口竖了两块巨幅广告牌，蓝底白字。
“EUV：The Future of Semiduanufacturing”
发布会定在上午十点。九点半人就到齐了。
三百多人，坐满了报告厅。
路透、彭博、金融时报、华尔街日报、日经新闻、法兰克福汇报——全球科技口的记者来了一半。
摄像机架了两排，闪光灯试了又试。
范德贝尔穿了件深蓝西装，白衬衫，没打领带。
他站在后台，助手递过来一杯水，他喝了一口，放下。
“准备好了？”
助手点头。
十点整，灯暗了。
范德贝尔走上台。
身后是一块十二米宽的LED屏，屏上一行字。
“EUV Alpha Demo Unit — First Light”
掌声。
范德贝尔没废话。
“今天，我给各位看一样东西。”
屏幕切换，实时画面——隔壁的洁净室。
一台机器占了半间屋子，银白色外壳，管线密密麻麻。
范德贝尔拿起遥控器，按了一下。
洁净室里，工程师启动程序。
嗡的一声。
机器亮了。
屏幕上跳出一组数字。
光源功率：62瓦。
波长：13.5纳米。
曝光均匀性：99.2%。
报告厅安静了三秒。
然后掌声炸了。
范德贝尔站在台上，等掌声停了。
“62瓦。各位，我们原定的目标是50瓦，今天的实测数据超出了百分之二十四。”
台下记者开始举手。
范德贝尔摆了摆手。
“问题等会儿再说，先看完。”
屏幕上切出第二组数据。
分辨率测试：45纳米线宽，清晰，没有畸变。
第三组，套刻精度：3.2纳米。
范德贝尔指着屏幕。
“这意味着，EUV光刻技术从实验室走向了工程验证阶段。我们距离量产只差最后一步。”
掌声又起来了。
发布会结束，记者围上去。
范德贝尔回答了十二个问题。最后一个，金融时报的记者问。
“首批量产设备的客户名单，能透露吗？”
范德贝尔笑了一下。
“首批设备将优先供应我们的长期合作伙伴——台积电，三星，英特尔。至于亚洲其他地区的客户，目前没有计划。”
这句话当天晚上就上了所有科技媒体的头条。
彭博的标题。
“ASML宣布EUV光刻机突破关键里程碑：亚洲客户被排除在首批名单外”
京城，后海。
下午三点。
张红旗坐在地下室。
面前一台电脑，屏幕上放的是ASML发布会的网络直播回放。
他从头看到尾，看了两遍。
第一遍看范德贝尔说了什么。
第二遍看屏幕上那些数字。
62瓦，13.5纳米，99.2%，45纳米，3.2纳米。
他把这些数字一个一个抄在纸上。
陈默站在旁边，没说话。
张红旗把纸折好，装进信封。
“发鹏城，钱老亲启。今天就寄，用最快的。”
陈默接过去，走了。
五月十号。
鹏城，地下室。
钱院士把ASML发布会的参数输进了模拟集群。
十台服务器跑了六个小时。
结果出来了。
钱院士把两张曲线图叠在一起。
一张是ASML公布的实测数据。
一张是集群用那五项专利的拉格朗日方程组模拟出来的理论曲线。
两条线，完全重合。
误差小于千分之三。
钱院士把眼镜摘下来，擦了擦，戴回去。
又看了一遍。
他拿起电话。
“张总，确认了。”
张红旗在煤市街。
“说。”
“他们发布会上展示的光路数据，我用我们的专利算法跑了一遍，结果完全一致。62瓦的光源输出，99.2%的均匀性，45纳米的分辨率，全都能复现。”
钱院士停了一下。
“用的就是我们的数学，一模一样。”
张红旗没说话。
钱院士又补了一句。
“证据链闭合